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紫外LED光源:現(xiàn)狀、挑戰(zhàn)與突破

發(fā)表日期:2025-02-12

在光電子技術(shù)領(lǐng)域,紫外LED光源憑借其獨(dú)特優(yōu)勢,在工業(yè)和消費(fèi)電子等眾多領(lǐng)域嶄露頭角。其波長范圍從250nm至420nm,全面覆蓋了UVA、UVB、UVC 三個(gè)紫外波段。不過,盡管紫外固態(tài)光源已廣泛應(yīng)用,但不同波段的紫外LED光源在規(guī)?;a(chǎn)進(jìn)程中,依舊面臨著各式各樣的技術(shù)難題。


UVA波段的光源器件目前已取得顯著成果,能夠?qū)崿F(xiàn)較高的電光轉(zhuǎn)換效率。在光固化和光催化等應(yīng)用領(lǐng)域,它成功替代汞燈光源,成為******。然而,這并不意味著UVA固態(tài)光源已發(fā)展至極限,其電光效率仍存在較大的提升空間,亟待進(jìn)一步探索與突破。


UVB和UVC波段的LED器件則面臨著材料制備方面的嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。隨著量子結(jié)構(gòu)中 Al 組分含量的不斷升高,制備高晶體質(zhì)量、高穩(wěn)定性的材料變得愈發(fā)困難。這些材料不僅要滿足晶體質(zhì)量的要求,還需具備良好的穩(wěn)定性,以確保在實(shí)際應(yīng)用中的性能表現(xiàn)。


對(duì)于UVC波段的深紫外 LED 器件而言,降低自吸收以及突破光提取效率是提升其光電轉(zhuǎn)換效率(WPE)的關(guān)鍵所在。在相關(guān)研究工作中,科研人員將重點(diǎn)聚焦于高晶體質(zhì)量 AlxGa1-xN 外延技術(shù)。通過采用 NPSS(納米圖案藍(lán)寶石襯底)和超晶格插入層等手段,有效減少量子結(jié)構(gòu)中的缺陷和應(yīng)力。同時(shí),創(chuàng)新性地引入高反射電極體系,以此提升 LED 器件的光子提取效率,從而推動(dòng)紫外(UVA/B/C)全線產(chǎn)品在性能上實(shí)現(xiàn)質(zhì)的飛躍。


在技術(shù)改進(jìn)計(jì)劃方面,UVA芯片技術(shù)領(lǐng)域和 DUV(深紫外)芯片技術(shù)領(lǐng)域均有著明確的規(guī)劃。在紫外線產(chǎn)品和應(yīng)用市場的最新進(jìn)展中,涵蓋了多個(gè)關(guān)鍵技術(shù)階段的突破。例如,385/395nm 波段產(chǎn)品技術(shù)階段的持續(xù)推進(jìn),不斷優(yōu)化該波段產(chǎn)品的性能;365nm 波段產(chǎn)品技術(shù)階段進(jìn)展,進(jìn)一步提升其在特定應(yīng)用場景下的適用性;DUV產(chǎn)品技術(shù)階段進(jìn)展,致力于攻克深紫外技術(shù)的難題。
此外,在底層材料改進(jìn)方面,通過改善 AlN(氮化鋁)材料的缺陷密度,提升材料的整體質(zhì)量。利用 AlN Void Structure(氮化鋁空洞結(jié)構(gòu))增強(qiáng)光提取,有效提高光的利用效率。而在高能低耗深紫外元件研發(fā)中,“n-Ga (Al) N 電極體系歐姆接觸形成機(jī)理研究” 是重要課題。當(dāng) n 型高 Al 組分 AlGaN 與傳統(tǒng) Ti 基金屬電極在高溫退火時(shí),界面處容易形成 TiN 島,并且 Au 會(huì)沿著 TiN 島表面擴(kuò)散到 AlGaN 材料內(nèi)部,形成 AuGa 化合物,這不僅會(huì)在金 - 半界面形成空隙,還會(huì)降低金屬電極膜層的平整度。為解決這一問題,研究人員通過設(shè)計(jì) n type 電極結(jié)構(gòu),優(yōu)化熔合條件,有效改善了平整度,同時(shí)減少了接觸阻抗。另外,探索高效能芯片疊層結(jié)構(gòu),以解決高 Al 組分 AlGaN 摻雜困難導(dǎo)致載流子遷移率低的問題。通過優(yōu)化 n hole 尺寸 r 和 n to n 距離 d,實(shí)現(xiàn)最低 n type 接觸阻抗和******擴(kuò)展電流,成功實(shí)現(xiàn) WPE 提升約 17%,為紫外 LED 光源的發(fā)展開辟了新的道路。
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